又出2名内鬼间谍，损失巨大已无法挽回！ 某科技公司2名核心技术研发员工非法窃取

又出2名内鬼间谍，损失巨大已无法挽回！ 某科技公司2名核心技术研发员工非法窃取等离子体源和晶原表面处理核心技术，离职后，立即飞往美国并加入美国应用科技公司，然后在一个月内以“发明人”申请专利，此项核心技术涉及芯片的良率能提升15%以上，技术难度仅次于光刻机。 这不是电影里的谍战剧情，而是我们高科技企业正在经历的残酷现实。就在2025年8月，国内半导体设备的重要企业某科技公司发布公告，把事情摊在了阳光下。他们正式指控全球半导体设备巨头美国应用材料公司非法获取并使用其等离子体核心技术秘密。 这两个人掌握着关于“等离子体产生和处理方法”的核心机密，在职期间都白纸黑字签过严格的保密协议。结果呢？他们一跳槽到新东家，转头就知识产权局提交了发明专利，发明人栏赫然写着他们的名字，而申请内容正是某科技公司的技术秘密。 这哪里是普通的人才流动，分明是一场精心策划的技术掠夺。这家科技公司的的这项技术，是利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理，是半导体制造中干法去胶、干法刻蚀等关键设备的核心。这套工艺直接关系到芯片生产的良率，其技术难度在制造环节中公认是仅次于光刻机的“掐脖子”环节。自己的心头肉，转眼被别人当成自己的“发明”去申请专利。 芯片良率提升15%的技术，大型氯化法的生产工艺，这些闪着金光的智慧结晶，是无数工程师日夜奋战的心血。它们代表着我们从追赶者向并行者、甚至引领者的艰难转身。保护这些技术，就是保护我们的未来竞争力。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。