高市还是太嫩了点， 以为捏着九成高端光刻胶市场，把10天审批拖到90天，就能让咱们的光刻机变废铁，想太多了。 2025 年底日本经产省官宣加码管制，把原本十天就能办完的 i 线光刻胶审批，硬生生拉长到九十天。还想着靠九成高端光刻胶市场的垄断地位，让咱们的光刻机变成一堆废铁，这如意算盘打得也太响了，响到自己都忘了时代早就变了！ 不可否认，过去很长一段时间里，日本在光刻胶领域确实握着话语权，全球九成以上的高端光刻胶市场都被日本企业掌控，尤其是在用于先进制程的KrF和ArF光刻胶领域，咱们之前对日本的进口依赖度一度超过90%。也正因为这层垄断优势，日本才觉得能靠延长审批卡住咱们的脖子，可他们没算到，咱们早就开始在光刻胶领域发力突破，现在已经不是只能被动依赖进口的阶段了。 就说这次被重点管制的i线光刻胶，虽然之前国产化率只有10%，但近几年国内企业的突破速度远超预期。武汉的鼎龙公司已经建成了全国首条千吨级光刻胶生产线，他们自主研发的高端晶圆光刻胶早就实现规模量产，近20种国产手机的OLED屏都用上了他们的产品，基本覆盖了所有国产手机品牌。 除了鼎龙，苏州瑞红、北京科华这些企业的i线光刻胶也已经实现量产，并且稳定向国内头部半导体厂商供货，不再是实验室里的样品。 更关键的是，咱们不光在成品光刻胶上突破，还打通了上游核心材料的瓶颈。光刻胶里起关键作用的光引发剂，之前95%以上都依赖美日韩进口，随时可能被卡脖子。但湖北三峡实验室联合企业攻关，已经让这种核心材料走向市场，配套的产业化项目也在建设中，建成后能让国产G/I线光刻胶的国内市场占有率提升到50%以上，从根源上降低了对外依赖。 在比i线光刻胶技术难度更高的领域，咱们的突破也没停。上海新阳的KrF厚膜光刻胶已经通过客户验证拿到了首笔订单，正式进入产业化阶段；南大光电的ArF光刻胶也成功通过客户认证，在50nm闪存产品的控制栅测试中，各项性能都满足工艺要求，良率也达标，这可是国内第一只通过验证的国产ArF光刻胶。这些突破说明，咱们已经在中高端光刻胶领域形成了梯队式发展，不再是单点突破，而是全产业链协同推进。 日本更没考虑到，他们的管制政策其实是把双刃剑，伤不到咱们多少，反而可能砸了自己的饭碗。中国大陆是日本半导体产业最大的市场，2024年前六个月，日本半导体设备对华出口额占全球的46%，单靠半导体设备出口就扭转了当年日本对华出口的下降局面。 光刻胶产业也是如此，中国的光刻胶市场规模还在快速增长，2024年已经达到80.5亿元，2025年会涨到97.8亿元，这么大的市场，日本企业要是真彻底断供，损失的是长期的盈利来源。 更重要的是，日本的管制已经触发了咱们的反制措施，这是他们没预料到的。2026年1月，商务部已经对原产于日本的进口二氯二氢硅启动反倾销调查，而二氯二氢硅正是光刻胶生产的核心原料，这一下就击中了日本光刻胶产业的命门。 之前日本还对ArF、KrF等高端光刻胶搞配额削减，一年对华供应的ArF光刻胶只能有850吨，现在咱们的反制让他们的生产线可能面临“无米下锅”的风险。而且咱们对日本的半导体清洗设备还加征了10%的关税，涉及的年出口额达8.5亿美元，形成了精准的反制组合拳。 说到底，日本这种靠技术垄断搞管制的思路已经过时了。现在全球半导体产业链是相互依存的，咱们有全球最大的半导体市场，这就是推进国产化的最大底气。 这些年国内企业在光刻胶领域的投入没有白费，从上游材料到下游成品，从成熟型号到高端产品，一步步实现突破，就是为了打破这种垄断封锁。日本想靠延长90天审批就让咱们的光刻机变废铁，显然是低估了咱们突破技术封锁的决心和能力，也忘了市场规律从来都不站在垄断者这边。
