光刻机界的“顶流”EUV！3个真相，看懂芯片卡脖子的关键 家人们，聊芯片绕不开的狠角色来了——EUV！这玩意儿直接决定7nm及以下先进芯片能不能量产，先把3个犀利观点摆死：1. EUV不是普通光刻机，是芯片制造的“光刻机天花板”；2. 全球只有荷兰ASML能造，有钱也不一定买得到；3. 攻克EUV，才是打破芯片垄断的核心密码。 以前造芯片用的是DUV光刻机，靠多重曝光也能搞出7nm芯片，但又费钱又费时间，良品率还低，根本没法大规模量产。而EUV用13.5nm的极紫外光当“刻刀”，能直接在晶圆上刻出更精细的电路，一步到位，效率和精度直接拉满，是先进芯片量产的必经之路。 转折点来了，别以为有钱就能拿下EUV！ASML造一台EUV要上万个零件，供应链遍布全球，美国还在背后卡脖子，不是谁想买就能买。咱们想买？层层限制拦着，这就是为啥先进芯片产能一直受限的关键原因。 但咱们没躺平！国产光刻机一直在默默发力，虽然现在还没到EUV级别，但DUV技术不断突破，一步步缩小差距。其实EUV的突破从来不是一个企业的事，是整个国家半导体产业链的硬仗。 说到底，EUV不仅是一台机器，更是一个国家科技实力的试金石。芯片自主的路上没有捷径，每一步突破都值得点赞。你觉得国产光刻机多久能追上EUV水平？评论区聊聊～
