快讯！快讯！ 我国在光刻胶领域取得重大突破， 日本一直觉得光刻胶这东西他们说了算，全球九成以上的高端货都攥在他们手里，想卡谁就卡谁，他们还特意限制高纯度氟化氢出口，想靠这招拖住中国芯片的发展。 北大实验室最近搞出了大动静。彭海琳教授团队拍到了光刻胶分子在显影液里的真实样子，这可是全球头一回。 就像用上了超高清显微镜，他们发现光刻胶分子会偷偷聚在一起，变成30纳米大小的"毛线团"。这些小家伙让7纳米芯片的电路该分开的地方黏住了。 芯片厂这下高兴了。研究团队想出两个简单办法：把烘烤温度调高一点，改进显影工艺。测试结果特别好，12英寸晶圆上的问题少了99%以上。 光刻胶在芯片生产里太重要了，花时间占一半，花钱占三成。我们以前基本全靠进口，人家说不给就不给。去年国内光刻胶市场有114亿元，这么大生意总不能老看别人脸色。 日本那边有点坐不住了。今年9月他们突然说要禁止某些光刻胶进口，明显是感觉到了压力。 好消息不止这一个。清华大学在更先进的光刻胶上有突破，武汉太紫微公司解决了原料问题，中科院也在新材料上有了进展。咱们中国人最会集中力量办大事。 想想以后，国产芯片用上国产光刻胶，成本低了，生产稳了，再也不用担心被人掐脖子。这项技术还能用在其他领域，用处大着呢。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
