2026年最具震憾的喜讯！国产极紫外光刻机已经研发出来了！ 根据近期多个消息来源报道，中国深圳的一个秘密实验室在极紫外（EUV）光刻机研发方面取得了重要进展，成功组装了EUV光刻机原型机，并能够稳定产生13.5纳米的极紫外光。 不过，略为遗憾的是，目前普遍认为，该原型机正处于紧张的测试和验证阶段，尚未实现可用芯片的制造，其高精度光学系统的复刻仍是关键瓶颈，中国团队尚未完全掌握将极紫外光精准投射到晶圆上的技术，原型机的光源功率和稳定性尚未达到量产要求。甚至业内普遍认为，中国实现EUV光刻机的商业化量产还需要一段时间，预计要在2030年左右才能实现。 尽管如此，该原型机对于我国半导体产业自主化仍具有划时代意义，因为此举打破了国外对EUV光刻机的垄断，且将促进我国光学、精密机械、材料科学、软件开发等上下游产业的协同发展，有助于我国提升半导体产业的整体技术水平，而且相信国产EUV光刻机实现量产为期不远，应当在近两三年即可实现商业化。
2026年最具震憾的喜讯！国产极紫外光刻机已经研发出来了！ 根据近期多个消息来源
怀亦峰哥
2026-01-26 19:26:08
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如来神掌
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