我国光刻机从世界前列到落后世界20年，根源就四个字：造不如买 中国光刻机起步不算晚，新中国刚成立没几年，就把半导体技术当重点抓。1956年，国家定下科学规划，强调得尽快搞定半导体，才能支撑国防计算。科研人埋头苦干，同年11月，第一只晶体三极管出来了，这步子跟国外差不多同步。 那时候啊，咱们手里攥着一手好牌。六十年代初，中科院旗下好几个研究所已经能做出接近微米级别的光刻装置了。上海、北京都有团队在攻关，虽然设备粗糙得像实验室里的手工模型，可路子走对了，自己画图纸、自己磨镜片、自己调试光源。老一辈科研人员常说：“那时候哪懂什么叫‘卡脖子’，只晓得国家要什么，我们就造什么。” 问题悄悄埋在了八十年代。国门一开，眼花缭乱。国外的机器又准又快，流水线上一摆，产量蹭蹭往上跑。自己研发呢？费钱、费人、还未必成功。于是“造不如买”慢慢成了不少企业的潜台词。短视吗？现在回头去看，确实有点。但当时那种“追赶心态”也能理解——别人跑出去一百米了，咱还蹲地上拧螺丝，谁不着急？ 可技术这玩意儿，从来不给投机者留情面。买来的机器用着顺手，自己研发的队伍却渐渐散了。光刻机不是冰箱彩电，迭代背后是一整个生态：光学系统、材料纯度、控制系统、甚至一枚镜片的抛光工艺都得积累几十年。你今天断了研发，明天再捡起来，对不起，赛道已经换了好几轮。等到九十年代ASML带着台积电搞出沉浸式光刻，咱们才猛然惊醒：原来光刻机已经成了精密工业的“珠穆朗玛峰”，而咱们手里连张像样的登山图都没有。 有人说：“市场换技术”这条路在别处走得通，在光刻机这儿偏偏摔了跟头。其实不是路不对，是光刻机太特殊，它站在产业链最顶端，捏着全球芯片的命门。别人怎么可能把命门交给你？一台EUV身上十万个零件，来自三十多个国家的最尖端供应商，那是别人用三十年时间织成的一张网。咱们想单买技术，就像只想买一朵花，却不愿意种一整片花园。 我记得去拜访过一位退休的光刻机工程师。他客厅墙上还挂着八十年代国产光刻机的设计草图，边角都泛黄了。“那时候我们差得并不远，”他摸着图纸叹气，“后来项目停了，人调走的调走、下海的下海。再想召集起来，难喽。”他话里藏着某种遗憾，不是遗憾没追上，而是遗憾明明曾并肩起跑，却中途自己松了劲。 好在故事没结束。这些年“卡脖子”三个字像针一样扎醒了不少人。上海微电子、长春光机所这些名字重新被推到台前。28纳米光刻机据说已经落地试验，更先进的也在攻关。这条路走得辛苦，但每一步都踩实了。你看，EUV的镜面平整度要求相当于“从北京到上海的地面起伏不超过1毫米”，咱们现在也能一点点磨出来了；激光光源、双工件台这些子系统陆续有了自主突破。慢是慢了点，可这回知道不能只盯着“买”字了。 回头想想，“造不如买”背后其实藏着一种发展焦虑，总想用最快速度抹平差距。但科技竞争偏偏是场马拉松，捷径往往是最远的弯路。光刻机的教训早就写在历史里：六十年代苏联半导体被“山寨美国芯片”带偏了路，日本却坚持自研设备与尼康、佳能一起冲到了光刻前沿。手里没有自己的饭碗，哪天别人关上门，饿肚子的滋味可不好受。 眼下全球产业链吵吵嚷嚷，倒是给咱们提了个醒：爬科技树没有“性价比”可言。核心的东西，哪怕费九牛二虎之力也得攥在自己手里。光刻机这二十年落后，就像一盆冷水，浇醒了也挺好，至少现在没人再争论“该造还是该买”了。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
