经常有人拿这个图问国产EUV光刻机是不是造出来了，科普下概念这个图上的机器叫“EUV光刻物镜装调干涉仪”，下面的单位名是“极端光学技术与仪器全国重点实验室”。图中，还不只一个干涉仪，应该有三个。有些群众就说，这是EUV光刻机的东西，好消息确认了。首先要一个概念，“EUV光刻”并不是一个特别难做的事。比如2017年，长春光机所就成功用EUV进行了光刻，划下了32nm间隔的线条。这证明了EUV光刻13.5nm波长的能力，DUV光线是193nm，做不到这个精度。但是“EUV光刻机”，就是特别难的，现在已经成为中国需要攻克的最后一个大科技难关。这是说，EUV光刻机的能力特别强，远强于一般的实验性“EUV光刻”。一个，要功率足够，也就是EUV光源系统难度极高，功率足够才能够让晶圆上一个芯片在0.1秒内完成曝光，快速加工。二是要过滤掉别的波长，不断损失能量才有一点EUV光束打到晶圆上，物镜系统精度要求极高。三是要连续运作，不断高速扫描对准，系统精度要求极高。这样的事，显然不是“极端光学技术与仪器全国重点实验室”能完成的。这是一个科研机构，能够进行一些EUV光刻的实验。如瑞士等国也有这样的实验室，出了一些EUV光刻的论文，一天加工一个性能不高的芯片都可以发文章，但工业生产意义不大。“EUV光刻物镜装调干涉仪”，在EUV光刻机造出来之后，肯定是需要的，但应该会比科研机构要求的精度高得多。因此，不能用这种非生产性科研机构的常见科研仪器，说明国家EUV光刻机已经有了。目前信息几乎没有，之前路透社发的深圳2025年初组装了一个EUV原型机的消息，也没什么干货，似乎是整合以前各种传言来抢新闻的，并不是真知道些啥。我认为目前最直接的目标，就是用国产DUV光刻机，在2028年一举突破28nm芯片的量产！如果实现了这一点，就可以宣布美国对中国的芯片封锁彻底失败了，中国已经形成了不可阻挡的全球唯一的芯片设备研发生产全产业链，之后就和解放战争一样席卷天下了。
