在中国宣布突破7nm芯片技术后，作为全球芯片代工巨头的台积电的顶尖工程师杨光磊感

在中国宣布突破7nm芯片技术后，作为全球芯片代工巨头的台积电的顶尖工程师杨光磊感慨：“如果大陆没有梁孟松，估计还要停在28nm”。   在芯片代工行业摸爬了二十多年的杨光磊，比谁都清楚从28nm到7nm的技术鸿沟有多宽，更明白在重重技术封锁下，能跨过这道鸿沟需要何等关键的推动力，而梁孟松，正是那个踩在悬崖边架起桥梁的人。   了解芯片行业的人都知道，28nm是成熟制程与先进制程的分水岭，从28nm往下迭代，每缩小一代，技术难度都是指数级增长，涉及光刻、蚀刻、薄膜沉积等上百个核心环节的协同突破。尤其是7nm制程，不仅需要高精度的极紫外光刻机，更要在电路设计、良率控制等方面攻克一系列卡脖子难题。   而当时的大陆芯片产业，正面临着西方全方位的技术封锁，光刻机买不来，核心技术资料拿不到，甚至连关键的设备零部件都被限制出口，想要从28nm迈向7nm，无异于在没有地图的情况下穿越荒漠。   梁孟松的到来，恰恰给这片荒漠带来了指引方向的光。作为全球半导体行业的顶尖专家，梁孟松在台积电和三星都曾主导过先进制程的研发，亲历了从28nm到7nm的完整迭代过程，对每一个技术节点的难点和痛点都了如指掌。   在他加入中芯国际之前，大陆的芯片代工企业在先进制程上一直进展缓慢，28nm制程虽然稳定量产，但在14nm及以下先进制程的研发上始终找不到突破口，不少业内人士甚至已经萌生了“暂缓先进制程，专注成熟制程”的想法。   梁孟松的加入，彻底改变了这一局面。他带来的不仅是先进的技术理念，更重要的是一套成熟的研发管理体系和攻坚思路。面对技术封锁的困境，他没有盲目跟风国际主流的极紫外光刻路线，而是结合大陆现有的设备条件，创造性地提出了基于深紫外光刻的多重曝光技术方案，硬生生在没有极紫外光刻机的情况下，开辟出了一条通往7nm的道路。要知道，多重曝光技术的工艺复杂度远超极紫外光刻，对良率控制的要求更是苛刻到了极点，全球范围内敢尝试这一路线的企业寥寥无几。   在研发过程中，梁孟松几乎是以“拼命”的状态投入工作。据业内人士透露，他每天工作时间超过12小时，亲自带队攻克了一个又一个技术难关。从电路布局的优化到光刻工艺的调试，从蚀刻精度的提升到良率的爬坡，每一个环节他都亲自把关。在他的带领下，中芯国际的研发团队凝聚力被彻底激发，原本分散的技术力量被整合起来，形成了强大的攻坚合力。仅仅用了几年时间，就实现了从14nm到7nm的跨越式突破，这一速度在全球半导体行业史上都极为罕见。   杨光磊作为台积电的顶尖工程师，自然清楚这条突破之路的艰难。台积电在7nm制程的研发上，不仅拥有充足的资金支持，更有阿斯麦尔提供的最先进极紫外光刻机作为保障，即便如此，也花费了数年时间才实现稳定量产。而大陆企业在缺少核心设备的情况下，能实现7nm突破，梁孟松的技术引领和战略决策起到了决定性作用。这也是为什么杨光磊会感慨，没有梁孟松，大陆芯片可能还要停留在28nm阶段。   值得注意的是，梁孟松的贡献不仅仅是推动了7nm技术的突破，更重要的是他为大陆芯片产业培养了一批高素质的研发人才。在他的带领下，一大批年轻的工程师快速成长起来，掌握了先进的制程研发技术和经验。这些人才就像种子一样，正在大陆芯片产业的各个领域生根发芽，为后续的技术迭代和产业升级奠定了坚实的基础。   当然，我们也不能把7nm突破的功劳完全归于梁孟松一人。背后是国家对芯片产业的大力支持，是无数科研人员的默默付出，是整个产业链的协同发力。   但不可否认的是，梁孟松在其中扮演了“关键先生”的角色。在技术封锁最严峻的时刻，他的到来打破了研发的僵局；在攻坚最困难的阶段，他的引领让团队找到了方向。正是这种“关键先生”的存在，才让大陆芯片产业在困境中实现了跨越式发展。   如今，7nm芯片技术的突破，不仅让大陆芯片产业摆脱了对国外先进制程的依赖，更让全球半导体行业的格局发生了深刻变化。曾经由台积电、三星垄断的先进制程市场，终于出现了大陆企业的身影。而这一切的背后，都离不开梁孟松这样的技术先驱。杨光磊的感慨，既是对梁孟松个人能力的认可，也是对大陆芯片产业突破不易的深刻体悟。   未来，随着更多优秀人才的涌现和产业链的不断完善，大陆芯片产业必将在更先进的制程上实现新的突破，而梁孟松在其中书写的这段破壁传奇，也必将被载入中国半导体产业的发展史册。