光刻机产业链可细分为六大核心环节，国产化进程加速推进：
1. 整机制造：上海电气、海立股份、张江高科等企业主导整机集成；银合科技与奥普光电则深耕精密光学与机械部件，夯实设备基础。
2. 光刻胶材料：南大光电、彤程新材等已实现关键光刻胶量产；晶瑞电材、雅克科技聚焦ArF等高端产品，持续突破技术瓶颈。
3. 光源系统：英诺激光、茂莱光学构建高功率激光光源核心能力；福晶科技联合永新光学，协同开发高性能激光光学模块。
4. 光学组件：江丰电子、苏大维格等企业提供高精度透镜与光栅；炬光科技、同飞股份则专注光学系统集成与热管理解决方案。
5. 多重曝光技术：冠石科技、至纯科技推动工艺升级，支撑先进制程；菲利华与精科电子联合攻关纳米级曝光方案，助力7nm及以下节点突破。
6. 洁净设备：蓝英装备、美埃科技打造半导体级超净环境；国林科技、安达智能提供智能化洁净监测与控制系统，保障光刻工艺稳定性。
随着国产替代深入，产业链各环节龙头有望持续受益于技术突破与产能释放。
