【华为与新凯莱共研的国产EUV光刻机】华为在光刻机领域取得了重要进展，其自主研

暨楠数码 2025-09-28 15:55:45

【华为与新凯莱共研的国产EUV光刻机】

华为在光刻机领域取得了重要进展，其自主研发的EUV光刻机已进入试生产阶段。以下是相关介绍:

-研发合作与技术路线：华为联合新凯来研发的Hyperion-1 EUV光刻机采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，绕开了ASML的二氧化碳激光轰击LPP方案，与上海微电子的LPP路线形成技术互补。

-研发进度：2025年Q3至2026年Q2为技术论证阶段，在中芯京城200mm产线试产，目标为13.5nm波长穿透和5nm制程验证，当前产能10片/小时,良率70%。2026年Q3至2027年Q1为量产准备阶段，2026年Q1推出Hyperion-2,功率提升至150W，目标产能150片/小时，支持3nm DRAM和2nm SRAM工艺验证, 2026年底完成全流程适配。

性能优势：华为EUV光刻机的核心光源效率突破3.42%，距离ASML商用水平仅差最后一公里。设备每小时处理250片晶圆，高于ASML同级的195片，且设备体积缩小30%，功耗直降40%，成本仅为进口设备的1/3。

量产规划：根据工信部路线图，2026年华为EUV光刻机将实现年产50台，20272028年良率提至60%-70%，满足国内70%的需求。