中国首台国产浸没式DUV光刻机测试,突破美国芯片封锁关键一步
好消息!国产机器重大进步。根据美国科技媒体Tom's Hardware分析,若《金融时报》描述准确,宇量昇正在测试的浸没式DUV系统类似于ASML在2008年推出的Twinscan NXT 1950i。
目标是28nm,但是多重曝光能做7nm。伯恩斯坦半导体分析师Lin Qingyuan表示:“成功的话将是中国企业重要一步,可以此为基础发展更先进设备。但要让原型机投入量产,还需要数年时间。”
这里是说还有个量产问题,要数年时间。相信我们进度不会慢,2028年量产28nm一定可以做到!重大胜利很快就要来了!
玖月♂飞龙在天
七纳米早已量产了
灯芯做的眼晴
这真是绝了,保密工作真是做的相当相当好