瑞利准则:决定芯片上特征可以打印多小的分辨率方程!你知道吗? CD = k1 • λ / NA(瑞利准则方程),在瑞利准则方程中,CD是临界尺寸,或最小可能的特征尺寸,λ是所用光的波长。NA是光学器件的数值孔径,定义了它们可以收集多少光。 最后,k1(或k1因子)是一个取决于与芯片制造工艺相关的许多因素的系数。物理极限光刻为k1=0.25。通过使用较小的光波长和较大的数值孔径(NA)的组合,同时将k1尽可能接近物理极限,可以实现较小的临界尺寸。 半导体行业的大部分研发都集中在减小关键尺寸上。ASML的光刻机以极高的分辨率打印,帮助芯片制造商进一步减小这一关键尺寸。更先进的微芯片意味着更小的功能,这需要更短的光波长、更强大的透镜和/或更低的k1因子。减少光波长是一项重大的技术转变,需要使用新光源的新型光刻机,以及新的(光学和抗蚀剂)材料和新工艺。但它也在芯片性能方面取得了最大的进步。 在这些波长步骤之间,该行业的进步是由透镜开发和通过对光刻工艺和计算光刻等技术的巧妙调整来降低k1。
美国众议员:美国向中国出口的芯片,性能只能略高于中国国内能够大规模生产的最先进芯
【3评论】【3点赞】